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半導體專用臭氧發生器200-500g

該半導體專用臭氧發生器,高臭氧濃度、低耗氧量、低功耗、相關反應性高、低能耗,在半導體清洗刻蝕方面的應用獲得二項發明專利。

半導體專用臭氧發生器40-100g

該半導體專用臭氧發生器,高臭氧濃度、低耗氧量、低功耗、相關反應性高、低能耗,在半導體清洗刻蝕方面的應用獲得二項發明專利。

半導體專用臭氧發生器10-30g

該半導體專用臭氧發生器,高臭氧濃度、低耗氧量、低功耗、相關反應性高、低能耗,在半導體清洗刻蝕方面的應用獲得二項發明專利。

5-10g臭氧發生器

此款設備專為食品制藥行業空間殺菌設計開發,外型簡單大方,操作簡單。采用空氣為原料,通過幹燥處理後,臭氧濃度穩定。

10-20g臭氧發生器

應用領域: 1. 車間凈化 2. 更衣室 3. 各行業實驗室——汙水處理、氣體處理、工業氧化 4. 消毒水制備
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